Standard No.:	GB/T 32999-2016
English Name:	Surface chemical analysis―Depth profiling―Measurement of sputtering rate:mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer
Chinese Name:	表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率
Chinese Classification:	G04    Basic standards and general methods
Professional Classification:	GB    National Standard
ICS Classification:	71.040.40 71.040.40    Chemical analysis 71.040.40
Source Content Issued by:	AQSIQ;SAC
Issued on:	2016-10-13
Implemented on:	2017-9-1
Status:	valid
Target Language:	English
File Format:	PDF
Word Count:	10500 words
Translation Price(USD):	280.0
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本标准规定了利用俄歇电子能谱（AES）和X射线光电子能谱（XPS）测定深度剖析离子溅射速率的方法，试样的离子溅射面积范围为0.4 mm?2～3.0 mm?2。本标准只适用于横向均匀的体相材料或单层材料，其离子溅射速率由溅射深度与溅射时间确定，溅射深度通过机械探针轮廓仪测得。?本标准提供了一种将深度剖析中的离子溅射时间转换为溅射深度的方法，并假设溅射速率恒定。本方法不是为扫描探针显微系统设计的，因此不能用扫描探针显微系统评价该方法。本方法不适用于溅射面积小于0.4 mm?2的情况，也不适用于溅射诱导的表面粗糙度与被测区域的溅射深度相比较明显的情况。?