Standard No.:	GB/T 44937.3-2025
English Name:	Integrated circuits—Measurement of electromagnetic emissions—Part 3:Measurement of radiated emissions—Surface scan method
Chinese Name:	集成电路 电磁发射测量 第3部分：辐射发射测量 表面扫描法
Chinese Classification:	L56    Semiconductor integrated circuit
Professional Classification:	GB    National Standard
ICS Classification:	31.2 31.2    Integrated circuits. Microelectronics 31.2
Source Content Issued by:	SAMR;SAC
Issued on:	2025-12-31
Implemented on:	2026-7-1
Status:	valid
Target Language:	English
File Format:	PDF
Word Count:	20800 words
Translation Price(USD):	832.0
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本文件描述了评估集成电路（IC）表面或附近的近电场、近磁场或近电磁场分量的测量方法。本测量方法旨在用于IC的架构分析，例如平面规划和配电优化。本测量方法也适用于测量扫描探头能够靠近的、安装在任何电路板上的IC。某些情况下，本测量方法不仅能扫描IC，还能扫描IC的环境。为了对比不同IC的表面扫描发射，宜使用IEC 61967-1规定的标准试验板。本测量方法提供了IC上方的电场或磁场的近场发射图。测量探头的性能和探头定位系统的精度决定了测量的分辨率。本方法预期使用的最高频率为6 GHz。使用现有探头技术可以扩展上限频率范围，但这超出了本文件的范围。测量能在频域进行，也能在时域进行。